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常用半导体气体分类如下:
（一）腐蚀性/毒性: HI、BF3、WF6、HBr、SiH2C2、NH3、PH3、C12、BCI3等
（二）可燃性: CH4、SiH4、PH3、AsH3、SIH2CI2、B2H6、CH2F2、CH3F、CO等
（三）助燃性: O2、C12、N2O、W3等
（四）惰性: CF4、C2F6、C4F8、SF6、CO2、Ne、Kr、He等
半导体行业中使用的电子特种气体，很多都是对人体有害的。比如，半导体制程工艺最常见的特种气体：硅烷（SiH4）就具有自燃特性，一旦发生泄漏，它们就会与空气中的氧气剧烈反应并开始燃烧。再比如磷烷（PH3）和坤烷（AsH3）也具有剧毒性，任何轻微的泄漏都可能对人们的生命造成伤害。正是由于这些明显的危险，所以对于高纯气体供应系统设计的安全性要求特别高。
